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泰興市和宸晶體科技有限公司
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  • OVD合成石英HOSQ-011
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  • OVD合成石英HOSQ-011

    以四氟化硅或有機硅為原料,采用OVD法制造,具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性,光學均勻性好,可用于LCD光掩膜基板、工業(yè)激光場鏡、聚焦準直鏡、激光光纖端帽、保護鏡的制造。

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商品描述

以四氟化硅或有機硅為原料,采用OVD法制造,具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性,光學均勻性好,可用于LCD光掩膜基板、工業(yè)激光場鏡、聚焦準直鏡、激光光纖端帽、保護鏡的制造。


產(chǎn)品指標


型號

金屬雜質(zhì)

(ppb))

羥基

(ppm)

均勻性條紋

應力雙折射

(nm/cm)

尺寸

(mm)

波段

(nm)

HOSQ-011<200<200

I級:<5×10-6

II級:<10×10-6

III級:<20×10-6

1D<5D300190-2500

備注:可根據(jù)使用尺寸定制生產(chǎn)方案

金屬雜質(zhì)含量


單位:ppb

AlBaCaCrCoCuFeKLiMgMn
NiNaTi含金量
<15<5<20<2<5<5<5<15<5<5<5<5<15<5<200


光學非均勻性


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