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以四氟化硅或有機硅為原料,采用OVD法制造,具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性,光學均勻性好,可用于LCD光掩膜基板、工業(yè)激光場鏡、聚焦準直鏡、激光光纖端帽、保護鏡的制造。
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產(chǎn)品指標
金屬雜質(zhì)
(ppb))
羥基
(ppm)
應力雙折射
(nm/cm)
尺寸
(mm)
波段
(nm)
I級:<5×10-6
II級:<10×10-6
III級:<20×10-6
備注:可根據(jù)使用尺寸定制生產(chǎn)方案
金屬雜質(zhì)含量
單位:ppb
光學非均勻性
VAD合成石英HOSQ-032
以四氟化硅為原料,采用VAD法制造,具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性,吸收系數(shù)低,光學均勻性好,可用于IC光掩膜基板、工業(yè)激光聚焦準直鏡、激光光纖端帽、高能激光光學元件的制造。
OVD合成石英HOSQ-031
以四氟化硅為原料,采用OVD法制造,具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性,吸收系數(shù)低,光學均勻性好,可用于IC光掩膜基板、工業(yè)激光聚焦準直鏡、激光光纖端帽、高能激光光學元件的制造。
VAD合成石英HOSQ-012
以四氟化硅或有機硅為原料,采用VADD法制造,具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性,光學均勻性好,可用于LCD光掩膜基板、工業(yè)激光場鏡、聚焦準直鏡、激光光纖端帽、保護鏡的制造。
CVD合成石英HOSQ-022
以四氟化硅為原料,采用CVD法制造,具有大尺寸、低雜質(zhì)含量等特性,光學均勻性好,可用于LCD光掩膜基板、高能激光光學元件和半導體石英器件的制造。
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